[求助] Sentaurus TCAD 三氯氧磷扩散工艺语法

发表于 2024-12-18 11:30:06 | 显示全部楼层 |阅读模式

悬赏100资产未解决

贴主目前正在使用Sentaurus TCAD仿真一个三极管的工艺仿真模型，在发射区的掺杂步骤使用了POcl3的扩散工艺。
但是在手册中没有看到有POCL3这个物质
也没有查到如何使用带有掺杂剂的气体的扩散工艺替代掺杂剂的注入工艺。
有没有大佬可以跟我说说这一部分具体该如何做？

GMT+8, 2025-5-24 08:12 , Processed in 0.092038 second(s), 5 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号

创芯大讲堂

创芯人才网

账号		自动登录	找回密码
密码			注册