模拟版图中的字母缩写

dmz123 · 发表于 2024-9-12 10:16:00

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版图小白，最近在看SMIC的DRC文件，但是里面有很多字母缩写，比如AR_H、AR_V、SBPMK2看不太懂，一般在网上搜也找不到答案，想请教大家有没有什么地方可以查到这些缩写代表的含义？

fengrlove · 发表于 2024-9-12 10:28:49

不同类型的光刻胶。
AR-H、AR-V ：抗反射涂层。AR-H通常用于较短波长的光刻工艺中，如193nm光刻。AR-V通常用于更长波长的光刻工艺，能够有效减少反射并改善图案的质量。
SBPMK2是一种高性能的光刻胶，专为先进的半导体制造工艺设计。通常用于更复杂的图案和更小的特征尺寸

Quinn714 · 发表于 2024-9-12 11:15:06

如果需要知道原生Layer的含义的话，可以去看design rule，或者mask相关的pdk文档，

dmz123 · 发表于 2024-9-12 11:21:39

fengrlove 发表于 2024-9-12 10:28
不同类型的光刻胶。
AR-H、AR-V ：抗反射涂层。AR-H通常用于较短波长的光刻工艺中，如193nm光刻。AR-V通常 ...

谢谢解答～

dmz123 · 发表于 2024-9-12 11:22:31

wx148520 发表于 2024-9-12 11:15
如果需要知道原生Layer的含义的话，可以去看design rule，或者mask相关的pdk文档， ...

好的，谢谢～

本征半导体 · 发表于 2025-1-20 15:34:14

fengrlove 发表于 2024-9-12 10:28
不同类型的光刻胶。
AR-H、AR-V ：抗反射涂层。AR-H通常用于较短波长的光刻工艺中，如193nm光刻。AR-V通常 ...

大哥这些layer的知识是您的经验还是有相关的书籍么？可以推荐阅读以下么？万分感谢

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