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楼主: 克洛

HV Process and Layout-new

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发表于 2009-5-31 16:16:32 | 显示全部楼层
感谢楼主分享~~
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发表于 2009-8-10 09:25:42 | 显示全部楼层
谢谢楼主分享
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发表于 2009-8-10 12:11:27 | 显示全部楼层
感謝分享~ Thanks a lot for kindly sharing
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发表于 2009-8-10 19:46:21 | 显示全部楼层
好东西自然要顶1
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发表于 2009-8-10 19:49:39 | 显示全部楼层
目前正在学习,谢了!
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发表于 2009-9-27 17:32:56 | 显示全部楼层
好东西一定要顶
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发表于 2009-9-27 17:34:16 | 显示全部楼层
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发表于 2009-9-28 09:22:56 | 显示全部楼层

ddd

18BGBGBGBGBG
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发表于 2009-9-28 09:25:00 | 显示全部楼层

999

bgbgbgbgbg18
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发表于 2009-9-28 09:43:35 | 显示全部楼层
For HV Product Mismatch Improvement
–LayoutDesign Dominate the Mismatch
–LV Device is better than HV Device
–HighMask Grade Better than Low Mask Grade
–Somekey process stage have effect on Mismatch

For High Leakage Issue Improvement of HV Product
–Latch-Up issue need to take care
–Isolation Layer is a plus for HV DeviceConclusion
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