SMIC 40nm PEX出现编译错误是为什么？

我的OK哦 · 发表于 2021-3-18 20:45:39

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本帖最后由我的OK哦于 2021-3-21 16:18 编辑

如图，DRC和LVS都已通过（DRC有些密度性错误没有管），PEX设置与其他人相同（他们用的都是180nm的库），但是我就一直报这个错误，画了两个电路（包括一个简单的反相器，图中给出了反相器版图）的版图都是这个错误。而且错误是说文件的第0行出现问题，我对比了其他人的这个文件，除了多了个tvf，没有什么不同。请问大家这是我电路有问题还是40nm的PEX设置和180nm不同？困扰一周多了，麻烦大神们指教一下，谢谢！

我的OK哦 · 发表于 2021-3-18 21:21:33

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asdsda · 发表于 2021-3-19 11:58:22

smic 40 是没有pex文件得，用lvs 然后include techfile,去百度下方法，网上很多

我的OK哦 · 发表于 2021-3-19 15:45:42

asdsda 发表于 2021-3-19 11:58
smic 40 是没有pex文件得，用lvs 然后include techfile,去百度下方法，网上很多

你是指规则文件吗？我就是按照网上教程设置的，用的就是LVS的rules file，rule.C/rule.R/rule.S也都已经include了，还是报这种错误

我的OK哦 · 发表于 2021-3-19 21:38:08

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我的OK哦 · 发表于 2021-3-21 16:15:27

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