关于STI的问题

cyril3164

期望大佬解答

xdy609841687

求大佬分享

feimou

   

analogg 发表于 2015-1-3 14:43
回复 3# fuyibin

谢谢回复！还有一个问题，也没搞太明白。

对mask：mask没有什么C/D之分，有Cr的地方遮光，没Cr的地方透光。
对光刻胶：正胶未曝光的区域显影后会留在wafer上，负胶被曝光的区域会留在wafer上。

所以，wafer上的图案是mask和光刻胶共同作用决定的。制程中OD和OD2用的是负胶。