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发表于 2022-4-6 11:57:59
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没有一个人说到点子上,3个VT 是有细微差别的,Vt-lin/Vt-Gam/Vt-sat 在实际测试数值上满足(以NMOS为例): Vt-gm<Vt-liin<Vt-sat, 这个差别是测试所在的工作区域造成的,
阈值电压Vth_lin是晶体管工作在线性区,当晶体管刚开始导通电流时对应的栅电压,即Vth_lin=Vg@Id=0.1uA*W/L, Vd=0.05V, vs=vb=0。阈值电压Vth_gm是晶体管工作在线性区,跨导gm最大时对应的栅电压,Vth_gm=Vg@gm_max, Vd=0.05V, vs=vb=0。阈值电压Vth_sat是晶体管工作在饱和区,当晶体管开始导通电流时对应的栅电压,即Vth_sat=Vg@Id=0.1uA*W/L, Vd=power, vs=vb=0。由于实测时晶体管工作饱和区的电流驱动能力比工作在线性区的电流驱动能力强,因而有Vth_sat<Vth_lin。而Vt-Gm 是严格意义上的Vt, 比Vt-lin 恒定电流法要更加精确,因此Vt-gm 实测数值<vt-lin, 更接近于理论实际Vt |
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