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EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)»论坛 › IC 设计及制造（半导体、微电子） › Analog Layout（版图） › Layout资料区 › BiCmos Flow Cross(制造工艺流程剖面图）

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楼主: liblueice

[原创] BiCmos Flow Cross(制造工艺流程剖面图）

发表于 2013-1-16 01:33:34 | 显示全部楼层

谢谢楼主分享，看了明白多啦

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发表于 2013-1-25 22:57:34 | 显示全部楼层

谢谢楼主分享

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发表于 2013-6-5 14:58:54 | 显示全部楼层

好東西,有0.18BICOMS會更好. 另外怎麼沒有EPI LAYER??

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发表于 2013-6-9 01:48:05 | 显示全部楼层

蓄热嘻嘻嘻

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发表于 2013-6-10 15:13:47 | 显示全部楼层

感谢楼主，学习了

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发表于 2014-11-14 22:45:47 | 显示全部楼层

好好学习一下。

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发表于 2014-11-15 19:53:40 | 显示全部楼层

下来看看

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发表于 2014-12-4 20:18:07 | 显示全部楼层

挺好的资料，

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发表于 2014-12-9 13:41:21 | 显示全部楼层

好东西，谢谢分享。

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发表于 2015-1-17 16:44:39 | 显示全部楼层

多谢！

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