请教各位大侠：用soc encounter做P&R时，怎样让standcell更加均匀的分布啊？

rfid_sh · 发表于 2011-12-7 16:15:15

回复 4# 陈涛

版主，你说的：
“有很多方法：
1）叫density box （blockage）
2）place mode里面也可以设定max density
3）setPlaceMode里面的module padding
4）instance Padding也可以
5）加placement blockage
”
能不能具体介绍一种操作的方法啊？不好意思，我是初学soc encounter，用的是界面操作，还是没理解你介绍的方法。
另外，“blockage”不是会禁止在该区域放置standcell和布线吗？

谢谢！

陈涛 · 发表于 2011-12-7 16:32:05

1)
点击

按F3，弹出属性窗口
把hard block，改为density，选择你要的密度
用光标画出这个density box的区域

再不懂的话，去看Encounter Digital Implementation System Menu Reference
或者相关的教学讲义

rfid_sh · 发表于 2011-12-7 16:52:38

回复 12# 陈涛

谢谢啦！

lemonlove79 · 发表于 2011-12-22 17:10:46

chris_li · 发表于 2011-12-22 17:56:15

用blockage控制啊，可以调整屏蔽比例的。

joemool · 发表于 2011-12-22 20:48:13

回复 12# 陈涛

身临其境！

rfid_sh · 发表于 2011-12-23 12:50:16

回复 15# chris_li

谢谢啦！

schockley · 发表于 2011-12-28 08:48:09

thanks

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[原创] 请教各位大侠：用soc encounter做P&R时，怎样让standcell更加均匀的分布啊？

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