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[讨论] 大家都来说说数字IC设计中MOS管的衬底都有哪些处理方法

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发表于 2011-11-21 12:11:25 | 显示全部楼层 |阅读模式

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学的时间也不短了,但似乎没有专门的地方讲衬底怎么接(vss or 源端)?分别应该考虑什么影响因素?另外设计时是N阱还是P阱还是双阱?工艺上是怎么选择的?大家都来随便说说吧,求指导啊求轻拍~~
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