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EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)»论坛 › IC 设计及制造（半导体、微电子） › Analog/RF IC 设计 › Analog/RF IC 设计讨论 › CSMC 0.5um2p3m mixed signal工艺问题
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楼主: wangweiww34

CSMC 0.5um2p3m mixed signal工艺问题

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25536573
发表于 2012-3-20 20:02:57 | 显示全部楼层
P+注入后，把P+掩膜版取反作N+注入，只有在有源区才有N+注入（多晶硅下除外），其它部分被场氧阻挡，
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Desingman
发表于 2017-7-1 15:27:46 | 显示全部楼层
学习中，一窍不通啊还
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xiaoshao
发表于 2017-9-13 18:14:16 | 显示全部楼层
这个还是好老的帖子哦
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